荣获化合物半导体制造 CS 行业奖;
单次可生长1x4”或者3x2” 外延片;
最高生长温度可达1850℃;
最多可配置12个源炉;
手动传样;
一体化框架设计使占地尺寸比其他同等级系统小40%。
研发成果直接推广至GEN200 和 GEN2000 MBE 系统。