GEN10 MBE 系统
单次可生长1x3”外延片；
最高生长温度可达1850℃；
最多可配置10个源炉；
自动传样提高了设备使用率，
允许多名用户同时使用该系统和执行无人看管的生长和校准工作；
最多可配置三个生长室并真空连接。
上一个：GENxplor MBE 系统
下一个：GEN200 MBE 系统
单次可生长1x3”外延片；
最高生长温度可达1850℃；
最多可配置10个源炉；
自动传样提高了设备使用率，
允许多名用户同时使用该系统和执行无人看管的生长和校准工作；
最多可配置三个生长室并真空连接。
