VOYAGER ®PE-CVD/PIB-CVD系统

VOYAGER plasma Ion Beam Assisted Chemical Vapor Deposition

• 丹顿专利技术：采用Endeavor 6”空心射频离子源，可独立控制离子能量和离子束流密度,可实现低温沉积(<100°C), 适用于包括聚碳酸酯(PC),聚甲基丙烯酸甲酯 (PMMA)的塑料基材。
• 可在<=8”基片(晶圆片）和3D器件（光学镜头）上镀制类金刚石碳膜(DLC)或纳米复合膜(DLN), 均匀性<+/-5%。
• 模块化设计，兼容 丹顿VERSA ®多腔生产应用平台，实现大规模生产。

VOYAGER plasmer Enhanced Chemical Vapor Deposition

• 丹顿专有技术：在工艺腔室内加配磁控靶枪，在沉积类金刚石膜过程中实施金属溅射，制备客户所需的金属掺杂类金刚石膜(metal doped DLC or Me-DLC)
• 可在<=8”基片(晶圆片）和3D器件（光学镜头）上镀制类金刚石碳膜(DLC) 或金属掺杂类金刚石膜( Me-DLC) ，均匀性<+/-5%。
• 模块化设计，兼容 丹顿VERSA ®多腔生产应用平台，实现大规模生产。