PHOENIX ®大面积连续式镀膜系统

Phoenix  plasma Ion Beam Assisted Chemical Vapor Deposition

• 丹顿专利技术：采用丹顿线型可调离子源。可通过调节离子能量和气体的比例沉积包括类聚酯（Polymer-Like Coating) 和类金刚石(DLC)等多种薄膜。
• 沉积有效面积等同3.5代玻璃 (600mm X 720mm). 采用托盘运输，可处理平面基材或3D器件，
• 可选配丹顿光控、色控系统。

Phoenix LC magnetron sputtering Inline System

• 兼容射频、交流、直流、脉冲直流溅射工艺
• 兼容平面或圆柱靶，尺寸可根据客户工艺需要订制，靶枪可旋转
• 沉积有效面积等同3.5代玻璃 (600mm X 720mm). 采用托盘运输，可处理平面基材或3D器件，
• 可选配丹顿光控、色控系统。