DISCOVERY ®ISO FLUX 磁控溅射系统

丹顿专利技术：柱形靶枪内溅射技术 （ICM）

卖点：

• 超高均匀性：+/-0.25%  可处理3D/曲面样品 高靶材利用率
• 适用镀膜工艺：
• 人体植入物镀膜 曲面光学镀膜 超高均匀性镀膜 

配置/指标：

• 12” 靶枪，可处理 8”或以下样品
• 兼容金属膜和介质膜
• 兼容Versa ®多腔室生产平台
• 可选配等离子体发射监控仪 （Plasma Emission Monitor）