INFINITY ®离子束沉积系统 -(IBD)
丹顿专利技术
离子束能量/离子束流密度分立控制技术 靶材偏压技术，保持低能量
卖点：
高均匀性 高致密性 高重复性 低污染 低损伤
适用高精度镀膜工艺要求：
| Vanadium oxide microbolometers | High-efficiency solar cells |
| Precision optics (lasers, IR detectors) | Focal plane arrays |
| VCSEL anti-reflective coatings | Thermal imaging |
| Spin valves for magnetic recording | Laser bar facets |
配置/指标：
可处理8”或以下样品，兼容金属膜和介质膜 兼容Versa ®多腔室生产平台，可选配单片/多片自动进样室
可选配预清洗离子辅助源，残余气体分析仪和各种在线监控仪器
自动三维度可调水冷/加热工件台
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